2016中国国际传感器与微系统(MEMS)产品技术应用展览会

放大字体  缩小字体 发布日期:2016-04-21  浏览次数:119   状态:状态
 
展会日期 2016-04-21 至 2016-04-23
展出城市 上海
展馆名称 上海世博展览馆
主办单位 上海市人民政府

展会说明

  2016年4月21-23日 上海世博展览馆(浦东新区国展路1099号)
  
  主办单位: 支持单位:
  
  中华人民共和国商务部 UNIDO联合国工业发展组织
  
  中华人民共和国科学技术部 UNDP联合国开发计划署
  
  中华人民共和国国家知识产权局 WIPO世界知识产权组织
  
  上海市人民政府
  
  承办单位: 中国•单位:
  
  上海市国际技术进出口促进中心 国家发展与改革委员会
  
  中国机电产品进出口商会 国家环境保护总局
  
  东浩兰生集团上海外经贸商务展览有限公司 美国机械工程学会-中国
  
  企荣(上海)展览服务有限公司 中国机械工业联合会
  
  【展会概况】
  
  在这个信息速度堪比光速的社会,准确的大数据,才是智能的基础。传感器的出现,有利于获取海量数据,赋予“智能”新的含义,让一个漫长的“传统工业”时代变得“鲜活”,步入感知世界。
  
  近年来,智能手环、谷歌眼镜等电子穿戴设备热卖,智能开关、温控器等智能家居兴起,无人机等航空航天器材备受资本青睐……传感器已渗透到各个领域。传感技术的进步不但可以提高智能时代的质量水平,更能有力地促进经济发展、社会“智慧”。近年来,随着世界范围内信息技术的快速发展,传感器与微系统(MEMS)产业是重中之重,发展传感器与微系统(MEMS)技术尤为重要。为了传感器与微系统(MEMS)技术健康良好的发展,推进传感器与微系统(MEMS)技术在相关领域的应用,主办单位邀请各相关单位特举办“2016中国国际传感器与微系统(MEMS)产品技术应用展览会”,旨在搭建国际传感器与微系统(MEMS)技术的展示交流的平台,促进上下游全方位的合作,为加快发展我国战略性传感器与微系统(MEMS)技术做贡献。
  
  【展会日程】
  
  报到布展:2016年4月19到20日 展示交易:2016年4月21到23日
  
  开幕仪式:2016年4月21日上午10:00 闭幕撤展:2016年4月23下午3:00
  
  【展示范围】
  
  1、MEMS器件
  
  光学MEMS:反射、光量开关、扫描、微型构件、微机械光学器件射频MEMS、开关、振荡器、过滤等;
  
  射频MEMS:开关,振荡器/谐振器、过滤等;
  
  MEMS传感器:加速度计、轴传感器、陀螺仪、压力传感器、重力传感器、角速度传感器、位移传感器、触摸传感器、气体传感器、温度传感器、磁力计、磁传感器、电子罗盘、湿度传感器、流量传感器、振动传感器、电容传感器、电学传感器、倾角传感器、机械传感器、硅麦克风、图像传感器、MEMS惯性传感器、MEMS微镜、MEMS惯性测量单元、BAW滤波器和双工器、微射流、微流引导、微感应器等;
  
  MEMS执行器:生物芯片、材料芯片、灯、泵、微流控芯片;
  
  MEMS电能:燃料电池,微发电机等;
  
  生物/化学MEMS:DNA/RNA技术,化学检测等、MEMS晶振;
  
  高复合型MEMS:CMOS/MEMS,LSI/MEMS 一体化、MEMS IP等;
  
  MEMS应用:MEMS传感器解决方案、麦克风,显示等、超微型机械人装置、微型工厂等、传感器网络、能量收集等;
  
  2、生物MEMS与医疗应用:MEMS技术在医疗处理及诊断方面的应用、DDS、纳米胶囊;DNA&RNA技术、微反应器、微流引导、微流控芯片等;
  
  3、MEMS加工设备
  
  光刻设备:半导体激光直写光刻、投影扫描光刻机等、无掩膜光刻设备、曝光系统、双面测试系统;
  
  镀膜设备:磁控溅射镀膜设备、离子束溅射镀膜设备、电子束蒸发镀膜设备、多弧离子镀膜设备、真空镀膜设备、涂层设备、薄膜成形、汽相淀积、溅射、光罩绘图机;
  
  沉积设备: GaN外延沉积用MOCVD设备;原子层沉积设备;等离子沉积设备;液态源沉积设备等;
  
  刻蚀设备:反离子刻蚀设备、ICP刻蚀设备、MEMS干法/湿法工艺系统、深反应离子刻蚀设备等;
  
  清洗设备设备:等离子清洗设备、UV-O3清洗设备、光掩膜清洗设备等;
  
  晶圆片键合:晶圆切割、芯片/导线焊接、涂胶、匀胶、去胶设备、烘烤、显影、对准工艺设备、扩散炉、微成形(注射,热压)、离子注入机等其他生产设备等;
  
  分析与检测仪器:光罩缺陷检测、半导体检测设备、封装检测、表面分析仪器、粗糙度仪、粗糙度检测仪、圆度仪、质谱仪、硅片探针台、扫描电子显微镜、薄膜厚度测量系统;显微设备:光学显微镜、电子显微镜、探针显微镜、电子能谱仪;检漏仪器、静电负离子空气净化机;气体分析及检测、分析和测量系统等;
  
  4、MEMS代工/封测:MEMS中式平台;仿真设计、原型测试、产品开发、量产;其他代工服务:图案形成、薄膜形成、雷射、离子脉冲加工、喷镀;封装:MEMS封装、装配、测试和校准;
  
  【参展程序】
  
  展位顺序分配原则:“先申请、先付款、先安排”。贵单位如欲报名参展,请索取《参展申请及合约表》,填写申请表加章后传真至组委会。在申请展位五个工作日内将参展费用全款或50%定金电汇至组委会指定账户,余款将于开展45日前付清。
  
  1、展位收费:
  
  展位类型标准展位(9㎡)角标准展位(9㎡)光地(少36㎡)
  
  国内企业 15800元/展位 / RM17800元/展位 / RM1300元/㎡
  
  国外企业4000美元/个展位 4500美元/个展位500美元/㎡
  
  注:A. 标准展位配备:标准展台(规格:3x3米),展位备注:高2.5米、三面围板、展位地毯铺设、中英文双语楣板字、咨询桌一张、折椅两把、废纸篓一个、射灯或日光灯两个、220V 插座一个、展位每日保洁、会刊登录、参展商证件。
  
  参展事项:
  
  1、请详细填写《参展报名表》,签字并加盖公章后传真或邮寄至组委会。
  
  2、展位安排原则:“先申请、先预定、先付款、先确定”协办单位可优先安排。
  
  3、有关展品运输、酒店接待、展台搭建等具体事项,将于会前三十天将《参展商手册》寄送至各参展商。
  
  2016中国国际传感器与微系统(MEMS)产品技术应用展览会秘书处
  
  地 址:上海市青浦区华徐路888号1号楼7018室
  
  电 话:021-60421324 联系人:柴明奎 18611082002
  
  传 真:021-31575512 邮 箱:305767789@qq.com
  

联系方式
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